プロンプト
EUVが反射のたびに光を失う理由を説明し、回折次数を追跡する：マスク → 2つのファセットアレイ → ウェハ。等光路、コーティング、逆マスク設計を紙の図で説明する。4×縮小、最大NA 0.993、シミュレーションによる5.4 nm FWHMピークを示す。50～60%はスキャナーの効率ではなく、受け入れられた次数の透過率であることを明確にする。3D設計には2,256個のファセットがある。周期パターンの限界、アライメント、コヒーレンス、未検証のレジスト印刷で締めくくる。平易な英語を使い、用語を定義し、誇張を避ける。