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EUV가 반사할 때마다 빛을 잃는 이유를 설명한 다음, 회절 차수를 추적하세요. 마스크 → 두 개의 면 배열 → 웨이퍼의 순서입니다. 종이 도식을 사용해 동일 광경로, 코팅, 역마스크 설계를 설명하세요. 4배 축소, 최대 0.993의 NA, 시뮬레이션된 5.4 nm FWHM 피크를 보여 주세요. 50–60%는 스캐너 효율이 아니라 허용되는 회절 차수 투과율임을 명확히 하세요. 3D 설계에는 2,256개의 면이 있습니다. 주기적 패턴의 한계, 정렬, 결맞음, 그리고 테스트되지 않은 레지스트 인쇄로 마무리하세요. 쉬운 영어를 사용하고 용어를 정의하며 과장된 표현은 피하세요.